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此前全球高端光刻领域，euv技术被阿斯麦尔独家垄断，国內先进位程晶片始终被卡在瓶颈，如今这台国產设备的问世，堪称弯道超车，直接跳过euv，站在highnaeuv的领头羊位置。
但……
数据终归是数据……
实际能做到吗？
这个问题，皇甫君也想知道，没等市领导开口，她先忍不住道：“苏总，要不…现在开启测试？”
这话问到了所有人的心坎里，一个个面露期待，包括教授、研究员、副教授等协作团队。
他们只是按照苏云杉的要求製造零件、组装、调试，对於能否系统化运转，甚至达到设计要求，並不確定。
苏云杉抬起腕錶看时间，“刚好9点整，好，请工作人员就位，听我指令，正式开启首次测试。”
一位工程师紧张地站在主控台前，由於设备高度自动化，人工干预较少，只需一人操作即可。
眾人凝神屏息，面露紧张之色。
苏云杉平静地发布指令：“开始上机前自检，执行s1全链路校验。”
唰——
终端界面瞬间刷新海量数据流，整机光源系统、七组超高精度反射镜组、双工件台、精密对焦系统、光路校准模块同步启动自检。
屏幕上，光路偏差、镜面面形误差、工件台定位参数、真空洁净度、雷射光斑均匀性等上百项核心指標，逐条跳转为绿色合格状態。
苏云杉继续下达指令：“载入1nm標准sram光刻版图，启动光源预激发，功率拉至320w稳態。”
嗡——
设备內部传出一阵极其低沉、稳定、细腻的机械共振声，没有剧烈震动，没有刺眼光亮，极致精密的工业设备，运转起来只有近乎细微的低频嗡鸣。
咚咚…咚咚…咚咚……
皇甫君心跳加速，紧盯腔体內部。
只见13.5nm极紫外高能等离子光源瞬间起弧，经过多层高精度光学镜组，多次反射、收敛、匀化，一束极窄的euv光束，沿著超长真空光路贯穿整机，精准投射至晶圆表面。
嘖嘖嘖……
安若素心中暗嘆：好科幻的样子…这玩意儿是我老公造出来的？他怕不是个外星人吧……
“双工件台切换，载入12英寸裸晶圆，执行对位校准。”
苏云杉慢条斯理道。
机械结构在真空腔体內无声滑移，国產高精度双工件台以纳米级精度平稳位移，定位误差严格控制在±0.3nm，晶圆边缘標记点与机台对位基准瞬间完成毫秒级贴合，套刻预偏差归零。
外行看热闹，內行看门道。
半导体製造研究院院长、光刻机研发中心主任以及教授等团队成员，神色越发震惊。
他们的目光死死锁定主控屏幕，无人敢出声打扰半分。
懂行的人都清楚，这一步对位校准，是1nm製程光刻最核心、最考验技术的关键环节，分毫偏差都会导致整片晶圆报废。
苏云杉紧盯实时成像数据，沉声確认：“对位合格，启动单次曝光，剂量240mjcm2，聚焦閾值锁定0.8nm。”
下一秒，euv光束精准击穿光刻胶表层，在晶圆基底上完成极致精微的电路图形復刻。
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