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而且，现在是80年代，光刻机的发展才起步。
中国光刻机发展起来，反而会压制其他半导体公司的发展。
就赵烨所知，光刻机到了90年代之后，几乎一二十年内都没有多少进步，业界普遍认为193nm光刻无法延伸到65nm技术节点，而157nm将成为主流技术。
直到2002，台积电的林本坚提出了193nm浸没式光刻的概念，此前，光刻机都是干式光刻机。
到了2007年，A**L阿斯麦与台积电合作开发，成功推出第一台浸没式光刻机，使得193nm光波在水中的等效波长缩短为134nm，足可超越157nm的极限。
阿斯麦也就在这个时候，凭借浸没式光刻机的技术优势彻底击败佳能、尼康，成为光刻机霸主。
倘若无疆微电子公司率先把林本坚收入麾下，提前开发浸没式光刻机，那么，中国光刻机实现弯道超车，指日可待！
赵烨此时面对日本，乃至全球的光刻胶厂商的封锁，心中的斗志越发昂扬。
而在场所有人心中都憋着一股气，这股气将会转化为动力，不把光刻胶开发出来誓不罢休！
此刻，赵烨环视一圈，缓缓开口道：“日本人害怕我们超越他们，所以才会对我们断供光刻胶！
我很早之前就说过，不要把希望寄托于别人，必须坚持走自主研发路线。
今天，他们断供光刻胶，明天就有可能断供单晶硅、芯片、内存、操作系统等等。
难道我们要一直让别人卡脖子吗？渴望别人的怜悯和施舍吗？”
“自力更生，丰衣足食！
国外有的，我们也要有，而且还要努力超越他们！”
“日本断供光刻胶这个事情，我觉得反而是一件好事，这提醒大家不要再抱有侥幸心理，否则，未来类似这种事情还会层出不穷！”
说着，赵烨目光看向无疆光刻胶公司的十多名科研工程师，“现在，我们必须加快开发光刻胶的脚步，时不我待，无疆微电子公司正在遭遇巨大的危机，受牵连的还有无疆集团！
李意鸣院士，你们有信心在半年内开发出g线光刻胶吗？”
一名四十多岁，穿着中山装，戴眼镜的中年男子，郑重地点了点头，沉声道：“我一定会带领团队加班加点，争取半年内把g线光刻胶搞出来！
！
！
小小日本，欺我中国无人耶？！
我们中国的科研人员并不比日本人差，之前只不过是缺少资金和研发设备，所以才导致我们国家的光刻胶研发进度比较缓慢。”
赵烨笑着点点头，对李意鸣院士说道：“嗯，我相信你们可以做到的！”
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